特征:
拉伸凸台、拉伸切除、圆周阵列、
包覆、线性阵列
建模步骤
1.上视基准面,草绘一个圆,直径515,向内等距实体10 。
2.拉伸凸台,深度25 。
3.在拉伸实体的顶面转换实体引用两个圆。 4.拉伸凸台,深度100 。
5.新建基准面,第一参考:前视基准面,角度0度。第二参考:图中紫色面。
6.在上一步新建的基准面上草绘图形如下:
7.包覆,蚀雕,点图中蓝色的面,深度10 。
8.圆周阵列特征,点圆边线,等间距,14个。
9.点蚀雕特征的顶面,进入草绘状态,画直径515的圆,等距实体10 。
10.拉伸凸台,深度10 ,去掉合并结果。
11.显示临时观阅轴,线性阵列实体,方向:点临时轴,间距110,数量6个。
12.点顶部,进入草绘状态,转换实体引用两条边线。
13.拉伸凸台,深度20 。
14.在顶面上草绘直径505的圆。
15.拉伸切除,深度1 。
16.在顶面上转换实体引用505的圆。
17.拉伸凸台,深度1 。合并结果的勾去掉。
18.添加外观。
19.完成。 整合预览
KeyShot渲染
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